PECVD等離子體增強化學(xué)氣相沉積是將低壓氣體放電形成的等離子體應(yīng)用于化學(xué)氣相沉積的一項新技術(shù)。在PECVD裝置中，將基片置于低壓輝光放電的陰極上，通入適當(dāng)氣體，在一定溫度下，利用化學(xué)反應(yīng)和離子轟擊相結(jié)合的過程，在基片表面沉積成膜。所以，PECVD不但包括化學(xué)氣相沉積，同時又有等離子體放電的強化過程。
在眾多的等離子產(chǎn)生辦法中，駿鷹PECVD反應(yīng)系統(tǒng)使用了高密度的等離子源，如高頻（RF-PECVD）、微波（MW-PECVD）和電子回旋共振（ECR-PECVD）。其濃密的等離子適用于薄膜太陽能電池、表面改性、光和工業(yè)鍍覆、氮化硅鈍化、金剛石薄膜和其他。提供的PECVD系統(tǒng)可為客戶個體制造和研發(fā)需求量身定制。
MW-PECVD
駿鷹微波PECVD系統(tǒng)主要用于沉積金剛石薄膜。提供生產(chǎn)多種形態(tài)的薄膜、如類金剛石碳(DLC)和單晶金剛石、納米晶體金剛石、超納米晶體金剛石以及單晶金剛石的加工方法。光學(xué)性能可以從烏黑到所有的光學(xué)級別。金剛石薄膜在光學(xué)級金剛石上可以達(dá)到1.2mm的厚度，而在黑金剛石上為2mm。我們的915 MHz MW-PECVD系統(tǒng)可鍍覆直徑高達(dá)4“/ 100毫米的基片。對于直徑2"/50 mm或更小的金剛石，使用2.45 GHz MW-PECVD系統(tǒng)更為經(jīng)濟。
真空室：內(nèi)腔尺寸 φ500mm（直徑）×350mm（高）.
φ500mm×550mm
φ600 mm×500 mm
φ700mm×500mm
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