設(shè)備說明：
磁控濺射真空鍍膜機是立式單開門非平衡磁控反應(yīng)濺射鍍膜機。此設(shè)備所沉積的膜層在致密度、均勻度、純度、硬度等方面均有提高。廣泛應(yīng)用于手表、眼鏡、通訊、電子、機械、裝飾和交通航空等領(lǐng)域的高檔裝飾和功能性薄膜。
主要特點：
1、 沉積速率快，溫升小，能較好的抑制打火及靶中毒現(xiàn)象；
2、 濺射釋放的高能量使膜層密度和附著力有顯著提高；
3、 觸摸屏幕+PLC，可實現(xiàn)全自動控制，自動/手動隨時切換；
4、 鍍膜室容積大，裝載量大，生產(chǎn)效率高。
5、 工件架采用公自轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)，可設(shè)置自動正反轉(zhuǎn)，產(chǎn)品均勻性好；
6、 整機配置合理，抽氣速率快，噪聲小，耗能低；
基本配置：
1、 鍍膜室、閥門、管道均采用不銹鋼制造，立式、單開門結(jié)構(gòu)，真空室有效直徑自Φ1000mm－Φ1800mm；
2、 真空系統(tǒng)由機械泵、旋片泵、羅茨泵和帶冷阱高真空油擴散泵或分子泵組成；
3、 鍍膜系統(tǒng)采用2~8套平面靶或柱靶，配有2~8個直流電源或中頻電源；
4、 輔助抽氣系統(tǒng)采用一臺低溫水汽捕集器；
5、 充氣系統(tǒng)采用1~4路氣體流量計及流量控制（顯示）儀控制；
6、 電控系統(tǒng)設(shè)置電路過載、斷水、斷氣聲光報警裝置；
7、 控制系統(tǒng)（觸摸屏+PLC），實時顯示詳細參數(shù)，全自動控制整個生產(chǎn)過程，并自動存儲工藝參數(shù)；
8、 可根據(jù)客戶要求配多套靶源。
技術(shù)參數(shù)：
| 總重量 | 3500kg~6000kg |
| 名義功率 | 80KW~180KW |
| 抽速（新機、空載） | 2×10-3Pa≦8min |
| 極限真空（新機、空載） | ≦8×10-4Pa |
| 壓升率（新機、空載） | 0.67Pa/小時 |
| 工件轉(zhuǎn)速 | 0~20r/min |
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