多弧離子鍍具有膜層密度高，附著為強，沉積速度快的的特點。
利用多弧離子鍍膜技術，既能鍍制耐磨損膜（TiN、TiC、 TiALN），防腐蝕膜（如AL、CR、不銹鋼、TiN等），也可鍍裝飾膜（仿金TiN、ZRN），如手表殼、小五金、陶瓷裝飾等。
采用了新型磁場設計及電弧源結構設計，優化了磁場分布，大大提高了弧源工作的穩定性，極大地減少了膜層中的液滴，使陰極表面得到了均勻刻蝕，提高了靶材的利用率。
平面大面積多弧和柱狀磁控多弧技術是目前國內的新技術，吸收國外多弧設備的優點，研制出了專適用于眼鏡架上鍍膜的多弧磁控設備，可在眼鏡架上鍍金色、黑、銀白、蘭、紅、綠、七彩等色澤，耐磨、防腐性及附著力明顯優于電泳漆和噴漆。
多弧離子鍍具有膜層密度高，附著為強，沉積速度快的的特點。
利用多弧離子鍍膜技術，既能鍍制耐磨損膜（TiN、TiC、 TiALN），防腐蝕膜（如AL、CR、不銹鋼、TiN等），也可鍍裝飾膜（仿金TiN、ZRN），如手、陶瓷玻璃裝飾、表殼、小五金等。
采用了新型磁場設計及電弧源結構設計，優化了磁場分布，大大提高了弧源工作的穩定性，極大地減少了膜層中的液滴，使陰極表面得到了均勻刻蝕，提高了靶材的利用率。
平面大面積多弧和柱狀磁控多弧技術是目前國內的新技術，吸收國外多弧設備的優點，研制出了專適用于眼鏡架上鍍膜的多弧磁控設備，可在眼鏡架上鍍金色、黑、銀白、蘭、紅、綠、七彩等色澤，耐磨、防腐性及附著力明顯優于電泳漆和噴漆。
| 設備型號 | JYDC-1800 | JYDC-2000 | JYDC-2200 | JYDC-2300 |
| 真空室尺寸 | 1800×2000 | 2000×2200 | 2200×2600 | 2600×3800 |
| 制膜種類 | 一次自動完成鍍膜工藝 | |||
| 電源類型 | 高壓離子轟擊電源、可控硅電源 | |||
| 真空室結構 | 立臥式單開門、抽氣系統 | |||
| 真空系統 | 滑閥泵＋羅茨泵＋擴散泵＋維持泵（或選配：深冷泵、深冷系統） | |||
| 保護膜氣體 | 獨立不銹鋼氣罐AK、BK、CK | |||
| 充氣系統 | 三路電磁閥（進口）進行調節充氣 | |||
| 高壓轟擊系統 | 30KVA 3000V | |||
| 極限真空 | 8×10－4pa（空載、凈室） | |||
| 抽氣時間 | 空載大氣抽至5×10－2pa小于6分鐘 | |||
| 工件旋轉方式 | 6軸/8軸/9軸公自轉/變頻無級調速 | |||
| 控制方式 | 手動＋半自動＋全自動一體化/觸摸屏＋PLC | |||
| 備注 | 真空室尺寸可按客戶產品及特殊工藝要求訂做 | |||
